中国光刻胶取得重大进展，日本厂商可能要哭了！ 近期，有则消息吸引了大家的目光，武汉太紫微电子宣布，28纳米制程光刻胶全系产品验证完成。 在我们欢欣鼓舞的时候，有个国家估计要Emo了，它就是和我们一衣带水的国家，日本。 按道理说，自家生产了产品，别人需要来买，给的价格也公道，那自己肯定是卖得越多挣钱越多。 比如，我们广西盛产沙田桔，深受全国人民的喜爱，是不是能生产多少就卖多少？不可能有人要不卖。 可日本偏不，为了亦步亦趋地跟上美国对华技术遏制的步伐，他出了一记自认为的“狠招”！ 2023年，日本开始对我国实行光刻胶等半导体材料的出口限制。在他们看来，这是个狠招，毕竟咱们光有光刻机不行，没了光刻胶，相当于打印机没墨水。 不得不说，这一招确实有点狠，当时，日本企业占据全球光刻胶市场份额达到70-90%，高端光刻胶更是达到了惊人的90%以上，垄断地位了属于是。 其中，7-45纳米芯片需要的ArF光刻胶，市占率超过90%，5纳米及以下制程用的EUV光刻胶直接垄断100%，中国的高端产品几乎完全依赖日本。 日本打得一手好算盘，对华禁运、拖延出口审批，想助力美国，靠垄断技术来卡中国芯片制造的脖子。 消息刚传出来，国内马上就有人怕了，说我们不应该和欧美对着干，早点投降也不至于这样举步维艰…… 听听，这些公知、大殖子说的都是些什么话…… 可我们的科技工作者偏不信邪，撸起袖子加油干！ 重压之下，科技人员被逼出了“极限操作”，其中以武汉太紫微公司最为出众，仅用5个月，并研发出28纳米光刻胶，性能媲美日货不说，良率甚至更高。 国产替代的速度比预期的，足足提前了9个月。去年，中国光刻胶进口额是21.3亿美元，花这么多钱还受气，日本被老美唆使，一直搞“出口限制”。 现在可好了，中芯国际、华虹半导体等国内厂商再也不用等日本船运了，国产光刻胶市占率已经达到了25-28%，且产能还不断增加，技术也在猛进。 日本厂家获悉该消息后，迫于无奈，连夜降价30%。 早知如此，何必当初，卡脖子让我们实现了从0到1，后面的事情就简单了，到100也是时间问题。 “墨水”问题解决了，“打印机”技术也快突破了。 最近，中国光刻机技术取得了一系列突破性的进展。 其中，中科院研发的全固态DUV光源技术，理论上可支持3纳米芯片制程；哈工大成功研发出13.5纳米极紫外（EUV）光源，EUV光刻机的“心脏”难题得到了解决；上海微电子的干式ArF光刻机，套刻精度≤8纳米，可支持90-8纳米芯片生产…… 设备生产好消息也不断传来。上海微电子的28纳米DUV光刻机进入量产阶段；新凯来成立仅四年，就推出28纳米浸润式光刻系统，全套设备国产化！ 科技上的重大成果，百花齐放，让人应接不暇。 荷兰光刻机巨头ASML的高管，曾多次叫嚣，宣称“就算将光刻机图纸拿给你们，你们也造不出来光刻机”。 他们的总栽温宁克也明确表示，“单一国家想要建立自力更生的芯片产业是极其困难的，需要与全球供应商长期合作”。 如今，见势不妙，ASML已罕见地要求美国放宽对华限制，荷兰媒体哀叹，“中国工程师用五年走完了ASML二十年的路！”早知如此，何必当初！ 事实证明，中国有全球最大的单一市场及工程师红利池，轻易就能实行技术-市场闭环，无论技术封锁，还是关税贸易战，都无法阻止我们前进的脚步。 日本凭光刻胶技术，就想阻碍中国的技术升级，无异于螳螂挡车，断供只能加速中国的国产替代。 最终，日本光刻胶会因为出口受限，导致产能过剩，市场份额也被韩国三星趁机抢占，真是自食苦果。 合作共赢才是出路，可惜有的人至死都不明白。
