中国EUV技术突破对全球格局有何影响近期，中国在EUV技术上取得重大突破，犹如一颗投入平静湖面的巨石，引发了全球的关注，其影响也将在多个层面逐步显现。
打破技术封锁，提升中国半导体产业自主性
一直以来，EUV光刻机被荷兰阿斯麦（ASML）公司垄断，且在美国的干预下对中国实施禁售 ，成为制约中国高端芯片制造的最大瓶颈。中国科学院上海光学精密机械研究所林楠团队成功建立运行参数具有国际竞争力的EUV光源实验平台，采用固体激光驱动技术，实现了3.42%的能量转换效率，处于国际靠前、国内领先水平，理论最大转换效率或接近6% 。这一突破打破了西方长期的技术封锁，为中国自主开展EUV光刻及其关键器件与技术的研发提供了坚实基础，意味着中国在高端芯片制造领域不再完全受制于人，产业自主性大幅提升。
重塑全球半导体产业格局
从市场层面来看，中国EUV技术突破将冲击现有的全球半导体设备市场格局。阿斯麦凭借EUV光刻机在高端芯片制造设备市场占据主导地位，获取高额利润 。随着中国在EUV技术上取得进展，未来有望推出国产EUV光刻机，打破阿斯麦的垄断局面，增加市场竞争主体，促使全球半导体设备市场更加多元化。这不仅会改变设备销售市场的份额分配，还将影响整个半导体产业链的成本结构。国产设备的出现将增加客户选择，可能引发价格竞争，降低芯片制造企业的设备采购成本，进而影响芯片价格，改变下游电子产品市场的格局。
在技术层面，中国另辟蹊径采用固体激光驱动技术，与阿斯麦的二氧化碳激光驱动技术不同 。这种技术路线的创新可能引领行业新的发展方向，促使其他国家和企业加大在相关领域的研发投入，推动全球EUV光刻技术的快速迭代。如果中国在该技术路线上持续取得突破，实现技术和成本上的双重优势，将吸引全球半导体产业资源向中国汇聚，重塑全球半导体产业的技术和生产版图。
增强中国在全球科技领域话语权
EUV技术作为半导体领域的核心技术之一，其突破是国家科技实力的重要体现。中国在这一领域取得成功，将极大提升中国在全球科技舞台上的地位和话语权 。在国际科技合作与竞争中，中国将拥有更多的谈判筹码，能够在制定全球半导体产业规则、标准等方面发挥更大作用，改变以往在高端技术领域跟随者的角色，成为规则的参与者甚至制定者。这也将激励更多中国科研人员投身于关键核心技术研发，营造良好的科技创新氛围，推动中国科技整体实力的提升。
引发全球半导体产业人才流动与合作新趋势
中国EUV技术突破将吸引全球半导体领域人才的关注。一方面，海外优秀华人科研人才可能因国内良好的科研环境和发展机遇选择回国，为中国半导体产业注入新鲜血液；另一方面，也可能吸引部分国外科研人才来华寻求合作机会 。这将促进全球半导体产业人才的流动和交流，加速技术的传播与融合。同时，随着中国在EUV技术上的崛起，国际上的半导体企业和科研机构与中国开展合作的意愿可能增强，双方在技术、人才、资金等方面的合作将更加频繁，推动全球半导体产业协同发展。
中国EUV技术突破是一场具有深远影响的科技革命，不仅关乎中国半导体产业的兴衰，更将在全球范围内重塑半导体产业格局，改变科技竞争态势。尽管从技术突破到实现EUV光刻机的商业化量产仍面临诸多挑战，但这一突破无疑为中国半导体产业的未来发展打开了一扇新的大门，也让世界看到了中国在科技创新道路上的坚定决心和强大实力。
